Measurements and simulation of avalanche breakdown in advanced Si bipolar transistors

Zanoni, E.; Crabbe, E. F.; Stork, J. M. C.; Pavan, Paolo; Verzellesi, Giovanni; Vendrame, L.; Canali, Claudio

A complete analytical model for impact ionization effects in bipolar transistors, which is able to predict the behaviour of advanced devices up to breakdown, is presented. A simple expression of the carrier mean energy suitable for circuit simulation is used to calculate the device multiplication coefficient and enables the influence of non-equilibrium transport on impact ionization to be accounted for. The role played by the reverse base current in determining the snapback of the common base output characteristics is investigated both experimentally and theoretically.

Measurements and simulation of avalanche breakdown in advanced Si bipolar transistors / E., Zanoni; E. F., Crabbe; J. M. C., Stork; Pavan, Paolo; Verzellesi, Giovanni; L., Vendrame; Canali, Claudio. - STAMPA. - (1992), pp. 927-930. ((Intervento presentato al convegno IEEE International Electron Devices Meeting (IEDM) tenutosi a S. Francisco (California, USA) nel Dec. 1992.

Data di pubblicazione:	1992
Titolo:	Measurements and simulation of avalanche breakdown in advanced Si bipolar transistors
Autore/i:	E., Zanoni; E. F., Crabbe; J. M. C., Stork; Pavan, Paolo; Verzellesi, Giovanni; L., Vendrame; Canali, Claudio
Autore/i UNIMORE:	E. ZANONI E. F. CRABBE J. M. C. STORK PAVAN, Paolo VERZELLESI, Giovanni L. VENDRAME CANALI, Claudio mostra contributor esterni nascondi contributor esterni
Codice identificativo Scopus:	2-s2.0-85067403069
Nome del convegno:	IEEE International Electron Devices Meeting (IEDM)
Luogo del convegno:	S. Francisco (California, USA)
Data del convegno:	Dec. 1992
Pagina iniziale:	927
Pagina finale:	930
Citazione:	Measurements and simulation of avalanche breakdown in advanced Si bipolar transistors / E., Zanoni; E. F., Crabbe; J. M. C., Stork; Pavan, Paolo; Verzellesi, Giovanni; L., Vendrame; Canali, Claudio. - STAMPA. - (1992), pp. 927-930. ((Intervento presentato al convegno IEEE International Electron Devices Meeting (IEDM) tenutosi a S. Francisco (California, USA) nel Dec. 1992.
Tipologia	Relazione in Atti di Convegno

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http://hdl.handle.net/11380/467043

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