Impact of Al-based Dipole Formation on Gate Stack Integrity and Reliability / Coppolelli, B., Cornigli, D., Chen, Z., Padovani, A., Vecchi, S., Dang, Y., Thomas, L., Vandelli, L., Lei, J., Yoshida, N., Whig, R., Nardi, F., Thareja, G., Larcher, L., Pesic, M.. - (2025), pp. 01-08. (2025 IEEE International Reliability Physics Symposium, IRPS 2025 Monterey, CA, USA 30 marzo 2025 - 3 aprile 2025) [10.1109/irps48204.2025.10983193].
Impact of Al-based Dipole Formation on Gate Stack Integrity and Reliability
Padovani, Andrea;Vecchi, Sara;Vandelli, Luca;Larcher, Luca;
2025
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(B. Coppolelli - IRPS 2025) Impact of Al-based Dipole Formation on Gate Stack Integrity and Reliability.pdf
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