Impact of Al-based Dipole Formation on Gate Stack Integrity and Reliability / Coppolelli, Bruno; Cornigli, Davide; Chen, Zheyuan; Padovani, Andrea; Vecchi, Sara; Dang, Yanliu; Thomas, Luc; Vandelli, Luca; Lei, Jianxin; Yoshida, Naomi; Whig, Renu; Nardi, Federico; Thareja, Gaurav; Larcher, Luca; Pesic, Milan. - (2025), pp. 01-08. ( 2025 IEEE International Reliability Physics Symposium, IRPS 2025 Monterey, CA, USA 30 marzo 2025 - 3 aprile 2025) [10.1109/irps48204.2025.10983193].
Impact of Al-based Dipole Formation on Gate Stack Integrity and Reliability
Padovani, Andrea;Vecchi, Sara;Vandelli, Luca;Larcher, Luca;
2025
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(B. Coppolelli - IRPS 2025) Impact of Al-based Dipole Formation on Gate Stack Integrity and Reliability.pdf
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