EnglishNROM memory cells are proposed as one of the most promising non-volatile memories. Issues on scaling and endurance have risen due to the presence of both electrons and holes, for the control of their relative position and spread in the charge trapping material. Therefore, a deeper analysis of the injected-charge distribution region is very important for program/erase bias optimization, reliability prediction and future scaling. In this paper, we introduce and discuss two tools, based on subthreshold slope and temperature effects, able to correctly estimate program charge distribution features from simple ID - VGS measurements
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| Data di pubblicazione: | 2006 |
| Titolo: | Profiling charge distribution in NROM devices |
| Autori: | A. PADOVANI; L. LARCHER; P. PAVAN |
| Autori: | |
| Data del convegno: | Giugno 2006 |
| Nome del convegno: | Research in Microelectronics and Electronics 2006, Ph. D. |
| Luogo del convegno: | Otranto (Italy) |
| Titolo del libro: | Research in Microelectronics and Electronics 2006, Ph. D. |
| Pagina iniziale: | 69 |
| Pagina finale: | 72 |
| Appare nelle tipologie: | Relazione in Atti di Convegno |
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