We investigate correlated gate (IG) and drain (ID) random telegraph noise phenomena observed in post breakdown regime on nMOSFET TiN/HfLaO/SiOx gate stacks. We observe two different IG-ID correlation patterns (i.e. of the same and opposite polarities) that we attributed to charge trapping into oxygen vacancy traps of different kinds located in the SiOx close to the Si/SiOx interface. Results reported in this letter provide useful information for improving the understanding of IG/ID RTN phenomena and its impact on the reliability of post-SBD nanometer MOSFETs.
Analysis of Correlated Gate and Drain Random Telegraph Noise in Post-Soft Breakdown TiN/HfLaO/SiOx nMOSFETs / W. H., Liu; Padovani, Andrea; Larcher, Luca; N., Raghavan; K. L., Pey. - In: IEEE ELECTRON DEVICE LETTERS. - ISSN 0741-3106. - STAMPA. - 35:2(2014), pp. 157-159. [10.1109/LED.2013.2295923]
Data di pubblicazione: | 2014 | |
Titolo: | Analysis of Correlated Gate and Drain Random Telegraph Noise in Post-Soft Breakdown TiN/HfLaO/SiOx nMOSFETs | |
Autore/i: | W. H., Liu; Padovani, Andrea; Larcher, Luca; N., Raghavan; K. L., Pey | |
Autore/i UNIMORE: | ||
Digital Object Identifier (DOI): | http://dx.doi.org/10.1109/LED.2013.2295923 | |
Rivista: | ||
Volume: | 35 | |
Fascicolo: | 2 | |
Pagina iniziale: | 157 | |
Pagina finale: | 159 | |
Codice identificativo ISI: | WOS:000331377500003 | |
Codice identificativo Scopus: | 2-s2.0-84893876301 | |
Citazione: | Analysis of Correlated Gate and Drain Random Telegraph Noise in Post-Soft Breakdown TiN/HfLaO/SiOx nMOSFETs / W. H., Liu; Padovani, Andrea; Larcher, Luca; N., Raghavan; K. L., Pey. - In: IEEE ELECTRON DEVICE LETTERS. - ISSN 0741-3106. - STAMPA. - 35:2(2014), pp. 157-159. [10.1109/LED.2013.2295923] | |
Tipologia | Articolo su rivista |
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