EnglishThe electromigration performance of Al-1%Si/TiN/ti metal scheme is investigated both for contacts and for stripes and compared with the results for the standard Al-1%Si metallization.
The Al-1% Si/TiN/Ti interconnection scheme: electromigration and reliability extrapolation / C., Caprile; G., Specchiulli; D., Sala; Fantini, Fausto. - In: QUALITY AND RELIABILITY ENGINEERING INTERNATIONAL. - ISSN 0748-8017. - STAMPA. - 7(1991), pp. 275-279.
| Data di pubblicazione: | 1991 |
| Titolo: | The Al-1% Si/TiN/Ti interconnection scheme: electromigration and reliability extrapolation |
| Autore/i: | C., Caprile; G., Specchiulli; D., Sala; Fantini, Fausto |
| Autore/i UNIMORE: | |
| Rivista: | |
| Volume: | 7 |
| Pagina iniziale: | 275 |
| Pagina finale: | 279 |
| Codice identificativo Scopus: | 2-s2.0-0026190558 |
| Citazione: | The Al-1% Si/TiN/Ti interconnection scheme: electromigration and reliability extrapolation / C., Caprile; G., Specchiulli; D., Sala; Fantini, Fausto. - In: QUALITY AND RELIABILITY ENGINEERING INTERNATIONAL. - ISSN 0748-8017. - STAMPA. - 7(1991), pp. 275-279. |
| Tipologia | Articolo su rivista |
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