The electromigration performance of Al-1%Si/TiN/ti metal scheme is investigated both for contacts and for stripes and compared with the results for the standard Al-1%Si metallization.
The Al-1% Si/TiN/Ti interconnection scheme: electromigration and reliability extrapolation / C., Caprile; G., Specchiulli; D., Sala; Fantini, Fausto. - In: QUALITY AND RELIABILITY ENGINEERING INTERNATIONAL. - ISSN 0748-8017. - STAMPA. - 7(1991), pp. 275-279.
Data di pubblicazione: | 1991 | |
Titolo: | The Al-1% Si/TiN/Ti interconnection scheme: electromigration and reliability extrapolation | |
Autore/i: | C., Caprile; G., Specchiulli; D., Sala; Fantini, Fausto | |
Autore/i UNIMORE: | ||
Rivista: | ||
Volume: | 7 | |
Pagina iniziale: | 275 | |
Pagina finale: | 279 | |
Codice identificativo Scopus: | 2-s2.0-0026190558 | |
Citazione: | The Al-1% Si/TiN/Ti interconnection scheme: electromigration and reliability extrapolation / C., Caprile; G., Specchiulli; D., Sala; Fantini, Fausto. - In: QUALITY AND RELIABILITY ENGINEERING INTERNATIONAL. - ISSN 0748-8017. - STAMPA. - 7(1991), pp. 275-279. | |
Tipologia | Articolo su rivista |
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