The effcts of the electromigration in the metallic stripes in ICs is reviewed.
Electromigration in Thin-Films for Microelectronics / G. L., Baldini; I., DE MUNARI; A., Scorzoni; Fantini, Fausto. - In: MICROELECTRONICS RELIABILITY. - ISSN 0026-2714. - STAMPA. - 33:(1993), pp. 1799-1805.
Electromigration in Thin-Films for Microelectronics
FANTINI, Fausto
1993
Abstract
The effcts of the electromigration in the metallic stripes in ICs is reviewed.File in questo prodotto:
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