Optimizing the Number of Steps and the Noise in Staircase APDs with Ternary III - V Semiconductor Alloys / Pilotto, A.; Nichetti, C.; Palestri, P.; Selmi, L.; Antonelli, M.; Arfelli, F.; Biasiol, G.; Cautero, G.; Driussi, F.; Esseni, D.; Menk, R. H.; Steinhartova, T.. - (2019), pp. 1-4. (Intervento presentato al convegno 2019 Joint International EUROSOI Workshop and International Conference on Ultimate Integration on Silicon, EUROSOI-ULIS 2019 tenutosi a Grenoble nel 2019) [10.1109/EUROSOI-ULIS45800.2019.9041888].
Optimizing the Number of Steps and the Noise in Staircase APDs with Ternary III - V Semiconductor Alloys
Palestri, P.;Selmi, L.;Biasiol, G.;
2019
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