Reliability analysis of the metal-graphene contact resistance extracted by the transfer length method

Stefano, Venica; Francesco, Driussi; Amit, Gahoi; Satender, Kataria; Pierpaolo, Palestri; Lenirne, Max C.; Selmi, Luca

doi:10.1109/ICMTS.2018.8383765

The transfer Length Method is a well-estab experimental technique to characterize the contact resista semiconductor devices. However, its dependability is ques for metal-graphene contacts. We investigate in-depth the si cal error of the extracted contact resistance values and we strategies to limit such error and to obtain reliable result method has been successfully applied to samples with dil contact metals.

Reliability analysis of the metal-graphene contact resistance extracted by the transfer length method / Venica, Stefano; Driussi, Francesco; Gahoi, Amit; Kataria, Satender; Palestri, Pierpaolo; Lenirne, Max C.; Selmi, Luca. - 2018-(2018), pp. 57-62. ((Intervento presentato al convegno 2018 IEEE International Conference on Microelectronic Test Structures, ICMTS 2018 tenutosi a Courtyard by Marriott Austin Downtown/Convention Center, usa nel 2018.

Data di pubblicazione:	2018
Titolo:	Reliability analysis of the metal-graphene contact resistance extracted by the transfer length method
Autore/i:	Venica, Stefano; Driussi, Francesco; Gahoi, Amit; Kataria, Satender; Palestri, Pierpaolo; Lenirne, Max C.; Selmi, Luca
Autore/i UNIMORE:	Stefano Venica Francesco Driussi Amit Gahoi Satender Kataria Pierpaolo Palestri Max C. Lenirne SELMI, LUCA mostra contributor esterni nascondi contributor esterni
Digital Object Identifier (DOI):	http://dx.doi.org/10.1109/ICMTS.2018.8383765
Codice identificativo Scopus:	2-s2.0-85049254478
Codice identificativo ISI:	WOS:000435854600011
Nome del convegno:	2018 IEEE International Conference on Microelectronic Test Structures, ICMTS 2018
Luogo del convegno:	Courtyard by Marriott Austin Downtown/Convention Center, usa
Data del convegno:	2018
Volume:	2018-
Pagina iniziale:	57
Pagina finale:	62
Citazione:	Reliability analysis of the metal-graphene contact resistance extracted by the transfer length method / Venica, Stefano; Driussi, Francesco; Gahoi, Amit; Kataria, Satender; Palestri, Pierpaolo; Lenirne, Max C.; Selmi, Luca. - 2018-(2018), pp. 57-62. ((Intervento presentato al convegno 2018 IEEE International Conference on Microelectronic Test Structures, ICMTS 2018 tenutosi a Courtyard by Marriott Austin Downtown/Convention Center, usa nel 2018.
Tipologia	Relazione in Atti di Convegno

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http://hdl.handle.net/11380/1166948

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