Polarity dependent charge Trapping in Thin SiO_2/Al_2O_3 Gate Stacks with Poly-Si Gate Electrodes: Influence of High Temperature Annealing / Lucci, Luca; Pantisano, L.; Cartier, E.; Kerber, A.; Groeseneken, G.; Ho, M. Y.; Green, M.; Selmi, Luca. - STAMPA. - (2002). (Intervento presentato al convegno 33th IEEE Semiconductor Interface Specialists Conference tenutosi a San Diego CA nel Dicembre 2002).

Polarity dependent charge Trapping in Thin SiO_2/Al_2O_3 Gate Stacks with Poly-Si Gate Electrodes: Influence of High Temperature Annealing

SELMI, Luca
2002
2002
33th IEEE Semiconductor Interface Specialists Conference
San Diego CA
Dicembre 2002
Lucci, Luca; Pantisano, L.; Cartier, E.; Kerber, A.; Groeseneken, G.; Ho, M. Y.; Green, M.; Selmi, Luca
Polarity dependent charge Trapping in Thin SiO_2/Al_2O_3 Gate Stacks with Poly-Si Gate Electrodes: Influence of High Temperature Annealing / Lucci, Luca; Pantisano, L.; Cartier, E.; Kerber, A.; Groeseneken, G.; Ho, M. Y.; Green, M.; Selmi, Luca. - STAMPA. - (2002). (Intervento presentato al convegno 33th IEEE Semiconductor Interface Specialists Conference tenutosi a San Diego CA nel Dicembre 2002).
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