Validity of the effective mass approximation in silicon and germanium inversion layers

VAN DER STEEN, J. L.; Esseni, David; Palestri, Pierpaolo; Selmi, Luca

Validity of the effective mass approximation in silicon and germanium inversion layers / VAN DER STEEN J., L; Esseni, David; Palestri, Pierpaolo; Selmi, Luca. - (2006), pp. 301-302. (Intervento presentato al convegno International workshop on Computational Electronics (IWCE) tenutosi a Vienna (A) maggio 2006 nel maggio 2006).

Validity of the effective mass approximation in silicon and germanium inversion layers

VAN DER STEEN J. L;ESSENI, David;PALESTRI, Pierpaolo;SELMI, Luca

2006

Scheda breve

Scheda completa

Scheda completa (DC)

	Anno di pubblicazione
	
				2006
			
	Titolo del Convegno
	
				International workshop on Computational Electronics (IWCE)
			
	Luogo del Convegno
	
				Vienna (A)  maggio 2006
			
	Data del Convegno
	
				maggio 2006
			
	Pagina iniziale
	
				301
			
	Pagina finale
	
				302
			
	Tutti gli autori
	
						VAN DER STEEN J., L; Esseni, David; Palestri, Pierpaolo; Selmi, Luca
					
	Citazione
	
				Validity of the effective mass approximation in silicon and germanium inversion layers / VAN DER STEEN J., L; Esseni, David; Palestri, Pierpaolo; Selmi, Luca. - (2006), pp. 301-302. (Intervento presentato al  convegno International workshop on Computational Electronics (IWCE) tenutosi a Vienna (A)  maggio 2006 nel maggio 2006).
			
	Tipologia
	
				Relazione in Atti di Convegno

File in questo prodotto:

Non ci sono file associati a questo prodotto.

Pubblicazioni consigliate

I metadati presenti in IRIS UNIMORE sono rilasciati con licenza Creative Commons CC0 1.0 Universal, mentre i file delle pubblicazioni sono rilasciati con licenza Attribuzione 4.0 Internazionale (CC BY 4.0), salvo diversa indicazione.
In caso di violazione di copyright, contattare Supporto Iris