EnglishUsing the plasma model for the metal dielectric function we have calculated the electromagnetic fluctuation induced force of a free standing metallic film in vacuum as a function of the film size and plasma frequency. If the film is deposited onto a substrate or interacts with a plate, both the sign and the value of the force are modified. Il is shown that the force can change sign from attractice to repulsive upon changing the substrate plasma frequency.
| Data di pubblicazione: | 2007 |
| Titolo: | A study of the electromagnetic-fluctuation-induced forces on thin metallic films |
| Autori: | BENASSI A; CALANDRA BUONAURA, C. |
| Autori: | |
| Rivista: | |
| Volume: | 40 |
| Pagina iniziale: | 13453 |
| Pagina finale: | 13466 |
| Appare nelle tipologie: | Articolo su rivista |
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|---|---|---|---|---|
| a7_44_0221.pdf | Post-print | NON PUBBLICO - Accesso privato/ristretto | Administrator Richiedi una copia |
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http://hdl.handle.net/11380/609662
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