The problem of Fermi-level pinning at semiconductor-metal contacts is readdressed starting from first-principles calculations for Al/GaAs. We give quantitative evidence that the Schottky barrier height is very little affected by any structural distortions on the metal side-including elongations of the metal-semiconductor bond (i.e., interface strain)-whereas it strongly depends on the interface structure on the semiconductor side. A rationale for these findings is given in terms of the interface dipole generated by the ionic effective charges.
Effects of interface morphology on Schottky-barrier heights: A case study on Al/GaAs(001) / Ruini, Alice; Resta, R.; AND BARONI, S.. - In: PHYSICAL REVIEW. B, CONDENSED MATTER. - ISSN 0163-1829. - ELETTRONICO. - 56(1997), pp. 14921-14924.
Data di pubblicazione: | 1997 |
Titolo: | Effects of interface morphology on Schottky-barrier heights: A case study on Al/GaAs(001) |
Autore/i: | Ruini, Alice; Resta, R.; AND BARONI, S. |
Autore/i UNIMORE: | |
Digital Object Identifier (DOI): | http://dx.doi.org/10.1103/PhysRevB.56.14921 |
Rivista: | |
Volume: | 56 |
Pagina iniziale: | 14921 |
Pagina finale: | 14924 |
Codice identificativo ISI: | WOS:000071043700014 |
Codice identificativo Scopus: | 2-s2.0-0000527647 |
Citazione: | Effects of interface morphology on Schottky-barrier heights: A case study on Al/GaAs(001) / Ruini, Alice; Resta, R.; AND BARONI, S.. - In: PHYSICAL REVIEW. B, CONDENSED MATTER. - ISSN 0163-1829. - ELETTRONICO. - 56(1997), pp. 14921-14924. |
Tipologia | Articolo su rivista |
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