Chemical bonding at the Si-metal interface: Si-Ni and Si-Cr

Franciosi, A.; Weaver, J. H.; O'Neill, D. G.; Chabal, Y.; Rowe, J. E.; Poate, J. E.; Bisi, Olmes; Calandra Buonaura, Carlo

Chemical bonding at the interface of a near‐noble‐metal (Ni) and a transition metal (Cr) with Si is examined through synchrotron radiation photoelectron spectroscopy studies of in situ formed interfaces, of cleaved bulk silicides, and of disordered surfaces prepared by sputter etching of the silicides. Interpretation of these experimental results is guided by parallel linear combination of atomic orbitals (LCAO) (extended Huckel approximation) calculations of stoichiometric Ni and Cr silicides.

Chemical bonding at the Si-metal interface: Si-Ni and Si-Cr / A., Franciosi; J. H., Weaver; D. G., O'Neill; Y., Chabal; J. E., Rowe; J. E., Poate; Bisi, Olmes; CALANDRA BUONAURA, Carlo. - In: THE JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY. - ISSN 0022-5355. - STAMPA. - 21(1982), pp. 624-627.

Data di pubblicazione:	1982
Titolo:	Chemical bonding at the Si-metal interface: Si-Ni and Si-Cr
Autore/i:	A., Franciosi; J. H., Weaver; D. G., O'Neill; Y., Chabal; J. E., Rowe; J. E., Poate; Bisi, Olmes; CALANDRA BUONAURA, Carlo
Autore/i UNIMORE:	A. FRANCIOSI J. H. WEAVER D. G. O'NEILL Y. CHABAL J. E. ROWE J. E. POATE BISI, Olmes CALANDRA BUONAURA, Carlo mostra contributor esterni nascondi contributor esterni
Rivista:	THE JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY
Volume:	21
Pagina iniziale:	624
Pagina finale:	627
Codice identificativo ISI:	WOS:A1982NZ84300079
Codice identificativo Scopus:	2-s2.0-0020156745
Citazione:	Chemical bonding at the Si-metal interface: Si-Ni and Si-Cr / A., Franciosi; J. H., Weaver; D. G., O'Neill; Y., Chabal; J. E., Rowe; J. E., Poate; Bisi, Olmes; CALANDRA BUONAURA, Carlo. - In: THE JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY. - ISSN 0022-5355. - STAMPA. - 21(1982), pp. 624-627.
Tipologia	Articolo su rivista

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http://hdl.handle.net/11380/449339

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