EnglishChemical bonding at the interface of a near‐noble‐metal (Ni) and a transition metal (Cr) with Si is examined through synchrotron radiation photoelectron spectroscopy studies of in situ formed interfaces, of cleaved bulk silicides, and of disordered surfaces prepared by sputter etching of the silicides. Interpretation of these experimental results is guided by parallel linear combination of atomic orbitals (LCAO) (extended Huckel approximation) calculations of stoichiometric Ni and Cr silicides.
Attenzione! Scheda prodotto non ancora validata dall'Ateneo
Dati e metadati della pubblicazione sono in fase di verifica da parte dell'Ateneo. In caso di errori o violazione dei diritti d'autore, contattare: supporto.iris@unimore.it
| Anno di pubblicazione: | 1982 |
| Titolo: | Chemical bonding at the Si-metal interface: Si-Ni and Si-Cr |
| Autori: | A.FRANCIOSI; J.H.WEAVER; D.G.O'NEILL; Y.CHABAL; J.E.ROWE; J.E.POATE; O. BISI; C.CALANDRA |
| Autori: | |
| Rivista: | |
| Volume: | 21 |
| Pagina iniziale: | 624 |
| Pagina finale: | 627 |
| Appare nelle tipologie: | Articolo su rivista |
File in questo prodotto:
Non ci sono file associati a questo prodotto.
Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento:
http://hdl.handle.net/11380/449339
I documenti presenti in Iris Unimore sono rilasciati con licenza Creative Commons Attribuzione - Non commerciale - Non opere derivate 3.0 Italia, salvo diversa indicazione.
In caso di violazione di copyright, contattare Supporto Iris
Copyright © 2018