Effects of stair case gate bias stress in IGZO/Al2O3 flexible TFTs / Buonomo, M; Wrachien, N; Lago, N; Cantarella, G; Cester, A. - In: MICROELECTRONICS RELIABILITY. - ISSN 0026-2714. - 88-90:(2018), pp. 882-886. [10.1016/j.microrel.2018.06.056]
File in questo prodotto:
Non ci sono file associati a questo prodotto.
Pubblicazioni consigliate
I metadati presenti in IRIS UNIMORE sono rilasciati con licenza Creative Commons CC0 1.0 Universal, mentre i file delle pubblicazioni sono rilasciati con licenza Attribuzione 4.0 Internazionale (CC BY 4.0), salvo diversa indicazione.
In caso di violazione di copyright, contattare Supporto Iris