Ricoprimento sottile periodico di un mezzo elastico soggetto a stress termico residuo

Nel presente lavoro viene studiato il problema di contatto e adesione tra uno strato di silicio parzialmente ricoperto da un film sottile di nitruro di silicio, soggetto ad uno stress termico residuo. Questo tipo di microstruttura trova rilevanti applicazioni nel processo di channeling di fasci di particelle ad alta energia. In particolare, si considera un modello periodico con film disposti ad intervalli regolari sia sulla superficie di un semispazio elastico che di uno strato di spessore finito. Utilizzando il metodo delle trasformate integrali, il problema si può formulare attraverso un sistema di equazioni integrali duali. Tale sistema può quindi ricondursi ad un'unica equazione integrale di Fredholm, che può risolversi attraverso tecniche di approssimazione basate sull'impiego dei polinomi di Chebyshev.