本發明係關於半導體裝置，且更特定言之，本發明係關於單一或多重閘極場平板之製造。
This invention relates to semiconductor devices and, more particularly, to the fabrication of single or multiple gate field plates.
單一或多重閘極場平板之製造 / Chini, Alessandro; Mishra, Umesh K.; Parikh, Primit; Wu, Yifeng. - (2005 Jul 01).
單一或多重閘極場平板之製造
Alessandro Chini;
2005
Abstract
This invention relates to semiconductor devices and, more particularly, to the fabrication of single or multiple gate field plates.
File in questo prodotto:
| File | Dimensione | Formato | |
|---|---|---|---|
|
TWI430341B.pdf
Open access
Tipologia:
Versione pubblicata dall'editore
Dimensione
1.19 MB
Formato
Adobe PDF
|
1.19 MB | Adobe PDF | Visualizza/Apri |
Pubblicazioni consigliate
I metadati presenti in IRIS UNIMORE sono rilasciati con licenza Creative Commons CC0 1.0 Universal, mentre i file delle pubblicazioni sono rilasciati con licenza Attribuzione 4.0 Internazionale (CC BY 4.0), salvo diversa indicazione.
In caso di violazione di copyright, contattare Supporto Iris
