The design of a novel test structure to study the influence of electromigration and thermomigration in the large dimension metal lines used in power integrated circuits is reported.

Design of a test structure to evaluate electro-thermomigration in power ICs / I., DE MUNARI; F., Speroni; M., Reverberi; C., Neva; L., Lonzi; Fantini, Fausto. - In: MICROELECTRONICS RELIABILITY. - ISSN 0026-2714. - STAMPA. - 36:(1996), pp. 1875-1878.

Design of a test structure to evaluate electro-thermomigration in power ICs

FANTINI, Fausto
1996

Abstract

The design of a novel test structure to study the influence of electromigration and thermomigration in the large dimension metal lines used in power integrated circuits is reported.
1996
36
1875
1878
Design of a test structure to evaluate electro-thermomigration in power ICs / I., DE MUNARI; F., Speroni; M., Reverberi; C., Neva; L., Lonzi; Fantini, Fausto. - In: MICROELECTRONICS RELIABILITY. - ISSN 0026-2714. - STAMPA. - 36:(1996), pp. 1875-1878.
I., DE MUNARI; F., Speroni; M., Reverberi; C., Neva; L., Lonzi; Fantini, Fausto
File in questo prodotto:
Non ci sono file associati a questo prodotto.
Pubblicazioni consigliate

Licenza Creative Commons
I metadati presenti in IRIS UNIMORE sono rilasciati con licenza Creative Commons CC0 1.0 Universal, mentre i file delle pubblicazioni sono rilasciati con licenza Attribuzione 4.0 Internazionale (CC BY 4.0), salvo diversa indicazione.
In caso di violazione di copyright, contattare Supporto Iris

Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/11380/451774
Citazioni
  • ???jsp.display-item.citation.pmc??? ND
  • Scopus 4
  • ???jsp.display-item.citation.isi??? 2
social impact