Damage generation and location in n- and p-MOSFETs biased in the substrate-enhanced gate current regime / Driussi, Francesco; Esseni, David; Selmi, Luca; Fausto, Piazza. - In: IEEE TRANSACTIONS ON ELECTRON DEVICES. - ISSN 0018-9383. - 49:5(2002), pp. 787-794. [10.1109/16.998585]

Damage generation and location in n- and p-MOSFETs biased in the substrate-enhanced gate current regime

SELMI, Luca;
2002

2002
49
5
787
794
Damage generation and location in n- and p-MOSFETs biased in the substrate-enhanced gate current regime / Driussi, Francesco; Esseni, David; Selmi, Luca; Fausto, Piazza. - In: IEEE TRANSACTIONS ON ELECTRON DEVICES. - ISSN 0018-9383. - 49:5(2002), pp. 787-794. [10.1109/16.998585]
Driussi, Francesco; Esseni, David; Selmi, Luca; Fausto, Piazza
File in questo prodotto:
Non ci sono file associati a questo prodotto.
Pubblicazioni consigliate

Licenza Creative Commons
I metadati presenti in IRIS UNIMORE sono rilasciati con licenza Creative Commons CC0 1.0 Universal, mentre i file delle pubblicazioni sono rilasciati con licenza Attribuzione 4.0 Internazionale (CC BY 4.0), salvo diversa indicazione.
In caso di violazione di copyright, contattare Supporto Iris

Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/11380/1163165
Citazioni
  • ???jsp.display-item.citation.pmc??? ND
  • Scopus 18
  • ???jsp.display-item.citation.isi??? 16
social impact